Intel сможет продолжить освоение новых техпроцессов даже в случае проблем с переходом на использование нового оборудования


  • Источник: 3dnews.ru 
  • Дата: Фев 21, 2022 
  • Просмотры: 502

К концу 2023 года компания Intel рассчитывает получить литографический сканер ASML TWINSCAN NXE:5000, который будет использоваться для экспериментов с высокой числовой апертурой, но в массовом производстве будут использоваться уже сканеры поколения TWINSCAN NXE:5200, которые поступят не ранее 2025 года. Intel готова к проблемам в реализации данного плана, как пояснила представительница руководства компании.

intel-smozhet-prodolzhit-osvoenie-novykh-tekhprotcessov-dazhe-v-sluchae-problem-s-perekhodom-na-ispolzovanie-novogo-oborudovaniia_1.jpg

Источник изображения: ASML

Соответствующие заявления были сделаны доктором Энн Келлехер (Ann Kelleher) во время интервью сайту AnandTech ещё до проведения мероприятия для инвесторов. В структуре Intel она в должности исполнительного вице-президента отвечает за разработку техпроцессов, и вести компанию к технологическому реваншу предстоит именно госпоже Келлехер. Напомним, что компания намерена за четыре года освоить пять новых техпроцессов, и к 2025 году уже начать выпуск продукции по техпроцессу Intel 18A, причём не только для собственных нужд, но и для сторонних клиентов.

Памятуя о неудаче Intel с освоением 10-нм техпроцесса, которое получилось слишком длинным и непредсказуемым, редактор сайта AnandTech Йен Катресс (Ian Cutress) поинтересовался у доктора Келлехер, существует ли альтернативный план действий на случай возникновения проблем с закупкой оборудования с высокой числовой апертурой или внедрения соответствующей фазы литографии. Представительница Intel невозмутимо заявила, что если использование так называемой High-NA литографии для изготовления отдельных слоёв не будет реализовано своевременно, прогресс в технологической сфере всё равно сохранится. Именно проблемы с освоением 10-нм техпроцесса научили компанию разрабатывать чёткий и последовательный план действий на случай возникновения проблем с новой литографией.

Она также пояснила, что Intel действительно первоначально хотела внедрить литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) ещё в рамках 10-нм техпроцесса, но к моменту освоения его первого поколения сделать это не удалось, а позже что-то менять уже было поздно. Теперь компания начнёт применять EUV-литографию в рамках техпроцесса Intel 4, который будет применять для производства клиентских процессоров Meteor Lake во второй половине текущего года. Этот техпроцесс подарит жизнь и неким сетевым компонентам, выпускаемым по заказу сторонней компании.